在先进工艺备受关注的时候，成熟工艺如今却悄悄地再度获得追捧，而在40纳米以上的成熟工艺，中国最大的芯片制造企业中芯国际的芯片产能占比已达到全球第三，离第二名的联电差距已很小。
市调机构Counterpoint近日公布了一份40纳米以上成熟工艺产能的排名，数据显示台积电占有28%的份额，这样的份额与台积电在芯片代工市场超过五成的份额相比显然不相称，这也说明台积电已将产能向更先进的工艺转移。
第二名则是联电，联电占有13%的份额；第三名的中芯国际则占有12%的份额，两者的份额差距只有1个百分点；三星作为比肩台积电的芯片制造企业，在40纳米及以上成熟工艺产能的占比也不高，仅位居第四名；第五名则是格芯。
第六名又是中国大陆的上海华虹，上海华虹在全球芯片代工市场也位居第六名，上海华虹目前最先进的工艺则是28纳米，据称上海华虹正积极推进14纳米工艺的量产。
40纳米及以上的成熟工艺虽然远落后于台积电量产的3纳米工艺，但是如今随着物联网、汽车芯片等的兴起，这些成熟工艺的需求增长很快，中国大陆的几家新代工企业的成熟工艺如今就几乎满产。
40纳米及以上成熟工艺虽然仍然受到追捧，不过芯片行业如今更热捧的成熟工艺还是28纳米，毕竟随着芯片行业的发展，更先进的工艺需求确实增长更快一些，只不过到了7纳米及以下的先进工艺成本过高，导致除了手机、PC等产品需求之外，其他芯片行业还是选择成本更低的28纳米工艺。
在28纳米工艺方面，中国大陆最大的芯片制造企业中芯国际如今在大举布局，中芯国际新建的4座工厂都是28纳米。28纳米获得如此青睐，在于它是中间过渡的最佳选择，既能提供满足需求的性能，而成本又相对实惠。
Intel如今一方面在积极推进Intel 4工艺，力求追赶台积电和三星，但是它又在将22纳米工艺改良推出16纳米工艺，希望以这个工艺切入芯片代工市场，并且已获得了联发科的订单，据称Intel将会以16纳米工艺为联发科生产WiFi、物联网芯片等，这也证明了这类工艺如今仍然有强烈的需求。
对于中国大陆的芯片行业来说，发展28纳米工艺的另一重考虑则是中国有望实现28纳米工艺的纯国产化，有业界专家就指出28纳米对中国芯片更具意义，因为中国的28纳米光刻机即将量产，如此28纳米工艺可以全数采用国产芯片设备，掌握主导权；同时28纳米光刻机也是向更先进光刻机发展的关键，28纳米光刻机可以说是第一代浸润式光刻机，浸润式光刻机可以发展到7纳米。
芯片制造工艺的发展是一条非常复杂的产业链，全球芯片行业由于众所周知的原因已被打断，对于中国芯片行业来说选择成熟工艺具有积极意义，而中国在成熟工艺产能方面的快速上升也说明了中国对于芯片工艺的抉择。
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