美国华裔朱佳迪带领麻省理工大学团队成功研发“原子级薄晶体管”，将美国芯片技术推到新的高度，这位黄皮肤、黑眼睛的华人再次证明了中国人在技术研发方面的独特天赋，可惜的是他帮助的却是美国，这不免让人思考为何华人就能在海外创造诸多奇迹呢？
对于芯片技术来说，关键技术人才的意义可以说一个人顶一支军队，当年知名的科学家钱学森归国，美国就曾说过钱学森回归中国对美国是重大的损失，钱学森一个人可以顶五个师。
在芯片技术研发方面其实也能体现这一点，中国最大的芯片制造企业中芯国际在2013年量产40纳米，2015年量产28纳米Sion工艺，而台联电在2014年量产28纳米HKMG，两家芯片代工企业的工艺差距此时已大幅缩小，然而此后双方的芯片制造工艺却再次拉开差距。
台联电在2017年量产14纳米，而中芯国际从28纳米Sion向28纳米HKMG工艺转变的时候却遭遇了重大技术阻碍，直到2017年知名的台积电前资深技术处长梁孟松加入中芯国际，2018年中芯国际就成功量产28纳米HKMG工艺，2019年研发成功14纳米工艺，由此可见关键技术人才对于芯片技术的重要性。
如今中国在芯片技术方面面临的处境众所周知，不仅仅是芯片制造，而是整个芯片产业链都需要突破，共同努力攻克各个环节，更需要诸多的关键技术人才，而海外华人正是中国芯片应该积极争取的人才。
阻碍中国芯片发展的关键芯片技术设备光刻机其实恰恰是由华人打破技术局限的，当年日本的佳能、尼康垄断着干式光刻机，占有光刻机市场近八成的市场份额，台积电的林本坚却成功研发出浸润式光刻机技术，突破了日本光刻机技术的限制。
随后ASML与台积电合作推进浸润式光刻机的量产，短短3年时间，浸润式光刻机就取代了干式光刻机，ASML也由此迅速超越日本光刻机称霸全球光刻机市场，可见华人在光刻机行业的重要影响。
随着中国对芯片产业的重视，如今海外华人也看到了中国芯片行业的前景，已吸引了诸多海外华人归国，据悉近两年时间中国就已吸引了1400多名华人科学家归国，他们为中国科技事业的发展做出了巨大的贡献。
不过发展中国的科技产业最重要的恐怕还是得靠自己培育人才，将这些人才留下，避免更多的人才流向美国，这样才是长久之计，据悉美国硅谷就有2万多人华人工程师，而其中有很大比例就是中国大学毕业再前往美国进修留下的人才，只要中国能给予这些人才更多机会和待遇，相信年轻一代人才还是会选择留下来，为祖国的科技发展添砖加瓦。
如今中国各方面都已清醒认识到人才的重要性，一些科技企业已给予国内的大学毕业生提供百万年薪，凸显出国内企业和机构已实实在在地为年轻人才提供优厚的待遇，以真金白银挽留人才，中国的科技技术研发实力在各方的共同努力下必然会越来越强。
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