报道称ASML或向中国市场推出特别版光刻机

7月6日消息（颜翊）据报道，ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，计划面向中国市场推出特别版深紫外光刻（DUV）光刻机。

该工具将符合最新的美国出口规定，可以在没有许可证的情况下运给中国客户。这款设备将使中芯国际（SMIC）和华虹等公司能够在28纳米级及以上制程上制造芯片。

该特别版光刻机是基于Twinscan NXT:1980Di改造，目前这是台积电仍在投入生产的最低级别的型号，该机器具备1.35数值孔径光学系统，分辨率小于38纳米，理论上支持7纳米级及更先进的节点。事实上，这台光刻机最初于2016年发布，曾被台积电用于开发其7纳米级工艺技术。

报道称，ASML可以对该设备进行改造，提高其最低支持的分辨率，以防止中芯国际和其他中国芯片制造商制造低于28纳米的工艺技术。考虑到中芯国际绝大部分收入来自28纳米及以上的生产节点，中国公司很可能仍然对采购这类工具感兴趣。

根据最新的出口法规，美国公司和个人必须获取许可证才能出口能够制造14纳米/16纳米及以下制程的非平面晶体管结构的逻辑芯片、128层及以上的3D NAND以及半间距18纳米以下的DRAM存储芯片的工具和技术。对于从美国出口组件的非美国公司，同样适用这些规定，ASML和Twinscan NXT:1980Di也受到限制。

根据最新的荷兰出口规定，ASML需要获取出口许可证才能向中国公司销售Twinscan NXT:2000i光刻机。ASML尚未正式推出Twinscan NXT的特别版本，但如果出口规定继续限制向中国销售先进技术，此举似乎是可能的。

生成海报

免责声明：本网站内容主要来自原创、合作伙伴供稿和第三方自媒体作者投稿，凡在本网站出现的信息，均仅供参考。本网站将尽力确保所提供信息的准确性及可靠性，但不保证有关资料的准确性及可靠性，读者在使用前请进一步核实，并对任何自主决定的行为负责。本网站对有关资料所引致的错误、不确或遗漏，概不负任何法律责任。任何单位或个人认为本网站中的网页或链接内容可能涉嫌侵犯其知识产权或存在不实内容时，应及时向本网站提出书面权利通知或不实情况说明，并提供身份证明、权属证明及详细侵权或不实情况证明。本网站在收到上述法律文件后，将会依法尽快联系相关文章源头核实，沟通删除相关内容或断开相关链接。