三星电子遭遇2nm制程瓶颈，暂停泰勒工厂人员部署，竞争力受质疑

近日，BusinessKorea报道，由于2nm制程量产良率问题，三星电子决定暂停其在 Texas（泰勒）工厂的人员部署，并撤回部分工作人员回国。这一举措不仅凸显了三星在先进制程工艺上所面临的挑战，也引发了外界对其竞争力的担忧。

据悉，三星电子在2nm制程上的良率目前低于50%，尤其是在3nm以下工艺方面，与竞争对手台积电相比存在明显差距。据数据显示，台积电的先进工艺良率约为60-70%，这使得台积电在市场份额上领先于三星，差距高达50.8个百分点（台积电Q2占比62.3%，而三星仅为11.5%）。

业内人士透露，三星电子在GAA（Gate-All-Around）工艺上的良率仅为10-20%，这远低于订单和大规模生产所需的良率标准。正是这一良率问题，迫使三星重新考虑其战略，并决定从泰勒工厂撤回工作人员。

与此同时，三星电子已签署了一份初步协议，希望通过美国CHIPS法案获得最高9万亿韩元（约合478.26亿元人民币）的补贴。然而，这一补贴的获得有一个前提，那就是工厂必须满足美国的相关条件。在当前良率问题的背景下，三星能否顺利拿到这一补贴，成为了外界关注的焦点。

业内专家认为，三星电子在晶圆代工领域的竞争力下滑，其内部官僚主义、决策制定流程缓慢以及低薪酬是主要原因。一位半导体教授指出，与20-30年前相比，三星在投资时机上的延后，也暴露出管理层当前现实缺乏充分认识。要想重振竞争力，三星电子需要对管理系统进行根本性的改革。（Suky）

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