9月18日消息，近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学 EUV 项目把 ASML 的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。
对此，中国电子工程设计院有限公司（下称“中国电子院”）18日下午发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。
中国电子院表示，简单的说，HEPS 可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型 X 光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界，HEPS 是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。
中国电子工程设计院有限公司创建于 1953 年，曾先后隶属于电子工业部、信息产业部，2003 年由国务院国资委管理，2009 年并入国家开发投资集团有限公司。
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