消息称荷兰ASML将向中国推出特供版光刻机

7月6日消息，据报道，ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。

根据中国台湾《电子时报》报道，该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。

相比最新款产品，1980Di 的效率比较低，分辨率可以达到 <38 nm，理论上可以支持 7nm 工艺。之前大多数芯片企业用其来生产 14nm 及以上工艺芯片，很少使用其生产 7nm 芯片。

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