8月9日， 了解到，拓荆科技股份有限公司(下称“拓荆科技”)科创板IPO进入“已问询”状态。
图片来源：上交所官网
拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。
财务数据显示，公司2018年、2019年、2020年、2021年前三月营收分别为7,064.40万元、2.51亿元、4.36亿元、5,774.10万元;同期分别亏损1.03亿元、1,936.64万元、1,169.99万元、1,058.92万元。
发行人选择的上市标准为《上海证券交易所科创板股票发行上市审核规则》第三章第二十二条第(四)项：预计市值不低于人民币30亿元，且最近一年营业收入不低于人民币3亿元。
本次拟募资用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目、补充流动资金。
拓荆科技背靠国家大基金、国投上海、中微公司，2019年1月至本招股说明书签署日，发行人无控股股东和实际控制人，不存在发行人控股股东、实际控制人控制其他企业的情况。
值得一提的是，拓荆科技今年7月12日科创板IPO获上交所受理，8月6日获问询，前后不到一个月。
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