6月1日， 了解到，南大光电(300346.SZ)发布公告，控股子公司宁波南大光电材料有限公司(以下简称“宁波南大光电”)自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。
南大光电表示，ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等)。
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